2022-725
隨著工藝制程的逐漸提升，EUV以及高NAEUV光刻機的出現，對于掩膜帶來了新的挑戰。掩模缺陷的影響將越來越大，這表明掩模設計規則需要變得更加嚴格。因此，為了實現更加靈活的光刻過程，業界開始研究用其他的東西取代物理掩膜，甚至干脆不使用掩膜進行加工，這樣的方法稱為“無掩膜光刻”。直寫光刻也稱無掩膜光刻，是指計算機控制的高精度光束聚焦投影至涂覆有感光材料的基材表面上，無需掩膜直接進行掃描曝光。直寫光刻根據輻射源的不同大致可進一步分為兩大主要類型：一種是基于帶電粒子的直寫光刻（CPM...
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三維激光直寫系統利用偏振態可調的激光光束對基底表面的雙折射材料實施曝光。通過控制曝光光斑尺寸及光束偏振方向改變基底上液晶分子排布，曝光后顯影便可以在基底表面形成對應的微納結構圖案。三維激光直寫作光刻版的工藝流程和要求：1.制作光刻版的工藝流程：a、繪制版圖文件；b、轉圖，生成設備可曝光的文件格式，曝光圖形；c、顯影，露出鉻層；d、蝕刻，使用Cr蝕刻液濕法腐蝕；e、使用濕法去除光刻掩膜版上的光刻膠層，并清洗甩干。2.制版工藝流程要求：a、版圖繪制：可接受文件格式（后綴名）：CI...
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3D打印的前身是快速原型制造，在上世紀80年代已經應用于工業設計和生產過程。現在通用的各3D打印技術，在當時基本上都已經開發出來了。反而3D打印這名字來得晚，直到1995年麻省理工學院的兩名畢業生JimBredt和TimAnderson才第一次提出了“3D打印”的概念。3D打印技術雖然有好多種，但思路都是一樣的，專業術語叫做“分布式材料制造”。分布式材料制造就是這樣將要生產的產品分割成一個個小部分，分別制造出來然后堆積在一起。只不過這些分割出來的部件都非常非常小，而且隨著技術...
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魔技納米科技有限公司成立于2017年，是三維微納制造領域集研發、生產、銷售、服務于一體的高新技術企業。公司深入生物醫療、光電通信、新材料、微納器件等多個產業應用領域，擁有應用于多行業場景的成熟加工工藝。可定制研發適配各產業領域生產需求的個性化設備和產品，突破生物制藥、傳感、光電芯片、超材料等領域從科研到工業生產的屏障，將納米級制造精度和大范圍生產結合，提供針對精密智造領域的整套專業解決方案。MN-UV-Ultra魔技納米無掩模激光直寫設備自主創新的激光直寫方式，采用非接觸式數...
查看更多2022-626
納米機器人具體來說其在納米尺度具有如下一種或多種功能，驅動、傳感、抓取、信號傳遞和信息處理等。除此之外，在未來其還應具有群體智能、自我裝配與復制、納米世界與宏觀世界交互的能力。納米機器人的研究進行到了哪一步呢？目前，仍未實現具有全功能*自主的納米機器人，可以做到的是，大機器抓取納米尺度的小東西，制造一些納米器件（納米傳感器，納米馬達，納米計算機等），基于生物分子和納米粒子具有簡單功能的納米機器人。納米機器人的三種系統：第一種，NanoManipulators。簡單來說，就是用...
查看更多2022-617
自動顯影機是線性模塊裝備的全自動設備，恣意兩個相鄰模塊之間都需求一個晶片的轉移機構，所以晶片的模塊間精確快速傳送就顯得格外重要。為了完成不同模塊之間晶片的平穩轉移和取放。自動顯影機使用要注意的問題如下：①開機前就應該啟動顯影機給顯影液預熱，待顯影液溫度達到設定的溫度值再開始顯影。②定期清洗顯影槽和顯影槽中的各種膠輥，以避免印版帶臟、刮傷等現象的出現。③清洗涂膠的膠輥，以免膠輥干結從而對驅動電機造成損害。④注意顯影液的疲勞程度,及時地更換顯影液。自動顯影機適用工藝（包括但不限于...
查看更多2022-66
雙光子物理是粒子物理學中描述兩個光子間相互作用的一個分支。一般來說，光束在發生交叉時并不會發生擾動。在一些特定的光學材料中，如果光束的強度足夠高，那么這些光束就可以通過一系列的非線性效應彼此影響。在純真空的環境中，如果雙光子系統的質心能量足夠大，那么就會發生由光引起的較弱的光散射。另外，如果該能量高于某一閾值，部分能量就會轉化為新的物質。雙光子顯微鏡帶有的超高靈敏度的直接探測器能記錄組織深層最細微的內部結構。多達7個的外置通道以及光譜拆分軟件充分支持多色的多光子實驗。再結合高...
查看更多2022-529
自相關儀是近十多年來發展的專門用于測量脈沖寬度的新型儀器，具有高分辨率、高靈敏度和使用方便等優點。適于測量鎖模染料或藍寶石激光器的ts脈沖和脈沖半導體激光器。自相關儀是一種能監視脈沖光譜輪廓隨時間變化的先進技術。我們能利用這些技術完整地重建電場。在這些技術中，自相關儀是最直接和簡單的方法。自相關儀能完整地恢復輸入場的相位，不存在自相關導致的模糊性。自相關儀工作原理：自相關儀的光學結構類似于萊克爾遜干涉儀，激光通過分光鏡后分為兩束光，將激光的時間量變成空間量，即將時間的測量變成...
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